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高分辨率納米壓印模板(Mold for nanoimprint lithography)

簡(jian)要描述:高分(fen)(fen)辨率納(na)(na)米壓印(yin)模板(Mold for nanoimprint lithography)采用*制造工藝,可(ke)把平面納(na)(na)米壓印(yin)拓展到任(ren)意曲面。標準模板分(fen)(fen)為三類(lei):Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。適用于Obducat,Suss,HP,EVG等多種型號的納(na)(na)米壓印(yin)設(she)備(bei)。

  • 產品型號(hao):石英/硅/聚合物模板
  • 廠商性(xing)質:代理商
  • 更新時間(jian):2021-04-24
  • 訪(fang)  問  量(liang):2252
詳情介紹

高分辨率納米壓印模板(Mold for nanoimprint lithography)技術(shu)參數:  

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials(Si,SiNx,SiC,quartz,glass).Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.  

提供各種(zhong)材料的(de)(de)納米壓印模(mo)板(硅,氮化(hua)(hua)硅,碳化(hua)(hua)硅,石英(ying)玻璃)。模(mo)板zui大尺(chi)寸:4英(ying)寸,特征(zheng)尺(chi)寸為100nm。對于(yu)更小的(de)(de)尺(chi)寸,zui小的(de)(de)特征(zheng)尺(chi)寸可以達到50nm。  

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.  

提(ti)供zui低30nm特征(zheng)尺寸(cun)的各種(zhong)結構的電子束刻蝕服(fu)務(wu)。基板:任何導(dao)電或者非導(dao)電晶片。  

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.  

各種納(na)米結構(硅,III-V族元素,II-VI族元素以及聚合物(wu))的微納(na)米加工。  

高分辨率納米壓印模板(Mold for nanoimprint lithography)主要(yao)特點:  

softmoldforthermalnanoimprint熱(re)壓印的軟模板  

quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓(ya)印的石英模板(ban)  

siliconmoldforthermalnanoimprint熱壓印的(de)硅模板

 

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