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激光干涉光刻機

產品簡介

激光干涉光刻機----HIL系列激光干涉納米光刻機具有突破性的強大功能,只需
要單次曝光即可在幾分鐘內制備大面積周期性納米結構。其
最小特征尺寸可以低于50納米。該系統是制作高品質、晶圓
級的納米壓印模板和納米結構器件的理想選擇。

產品型號:
更新時間:2023-06-17
廠商性質:代理商
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激光干涉光刻機

激光干涉光刻機

 HIL系列激光干涉納米光刻機具有突破性的強大功能,只需 要單次曝光即可在幾分鐘內制備大面積周期性納米結構。其 最小特征尺寸可以低于50納米。該系統是制作高品質、晶圓 級的納米壓印模板和納米結構器件的理想選擇。


最小線寬低于50納米

多種一維/二維納米圖案

單次曝光實現晶圓級納米結構


HIL 1000納米光刻系統非常適用于高質量晶圓級納米壓印模板的制作,能滿 足各種研發和量產的需求。同時,該系統在基于大面積納米結構的器件設計開 發,尤其是在設計參數到試產驗證的快速迭代環節中能發揮巨大的作用。


可選配特征尺寸調制模塊:對特征尺寸進行可定制化的空間調制,可用于提 高結構尺寸均勻性或根據設計要求調節尺寸變化。


圓晶級曝光 標準配置的 HIL 1000 系統可以通過一次曝光實現在 3 英寸晶圓上 制造均勻的周期性納米結構。通過選配升級,增加特征尺寸調制模 還可以將曝光區域的最大面積擴展到 4 英寸,同時具備更好的線 寬均勻性。

高分辨率納米圖案 HIL 1000 系統能制備特征尺寸低于 50 nm 的納米結構。其加工出 的超高深寬比的光刻膠矩形截面非常有助于后續的刻蝕和沉積等加 工工藝。

快速光路重構 HIL 1000 系統配備的快速光路重構模塊和高精度工件臺有助于制 造具有不同周期和幾何形狀的納米圖案,包括一維線柵和納米點、 孔、棒、棋盤格等二維陣列。

特征尺寸調制 HIL 1000 系統可以選配特征尺寸調制模塊。該模塊通過精密調制 納米結構的占空比,可提高單次曝光區域內的納米圖案均勻性,擴 大單次曝光的區域,同時也可用于實現特定設計的特征尺寸的晶圓 級空間調制。


激光干涉光刻(也稱全息光刻)是一種無需掩膜的光刻技術, 可以實現以高通量的方式大面積制造周期性納米結構。 在傳 統的干涉光刻系統的配置中,相干光源通常被分成兩個子光 束,并以一定角度形成干涉條紋,通過投射到涂有光刻膠的 晶圓表面來制造周期性納米結構。干涉圖案的周期可由公式  ?=λ/2sinθ 推算,其中 λ 是光源的波長,θ 是兩個子光束形 成的夾角的一半。

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